cu-023 - 全反射蛍光X線分析装置

株式会社リガク ナノハンター

  • 予約状況

    予約できません。 × 空きなし。 
    空きがあります。  ほぼ空いています。 

    画像

    設置場所

    住所: 〒558-8585
    大阪府大阪市住吉区杉本3-3-138
    建屋・棟: 大阪市立大学 工学部棟
  • 詳細

    仕様: マルチビームシステムによりAl~Uを高感度に検出します。試料を置くだけで簡単に非破壊分析が可能です。
    また、測定の準備も容易で、液体試料の場合、きわめて少ない液量でppbレベルの測定が可能です。
    注意事項: 【測定例1:蒸着膜中不純物の検出】
    全反射蛍光X線分析法では、照射X線は試料表面から数nm程度の深さまでしか侵入しません。この現象を利用して、極表面のみの高感度分析を行うことが可能です。

    【測定例2:固体表面上の付着形態分析】
    蛍光X線強度の照射角度依存性を測定することで、試料表面上の元素付着形態を判別することができます。

    【測定例3:膜状試料の深さ方向分析】
    照射X線の角度を変えることにより、構成元素の深さの濃度変化をみることができます。

    基本情報

    機器番号: cu-023
    機器状態: 利用可能
    カテゴリー: 06.元素分析
    機器担当者: 研究基盤共用 センター機器担当者
    機器部局: 大阪市立大学

PageTop