研究設備・機器共通予約システム

OMU-023 - 卓上型全反射蛍光X線分析装置

株式会社リガク　NANOHUNTERⅡ

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大阪公立大学研究基盤共用センター機器紹介

仕様：

マルチビームシステムによりAｌ～Uを高感度に検出します。

試料を置くだけで簡単に非破壊分析が可能です。

また、測定の準備も容易で、液体試料の場合、きわめて少ない液量でppbレベルの測定が可能です。

注意事項：

【測定例1：蒸着膜中不純物の検出】全反射蛍光X線分析法では、照射X線は試料表面から数nm程度の深さまでしか侵入しません。この現象を利用して、極表面のみの高感度分析を行うことが可能です。

【測定例2：固体表面上の付着形態分析】蛍光X線強度の照射角度依存性を測定することで、試料表面上の元素付着形態を判別することができます。

【測定例3：膜状試料の深さ方向分析】照射X線の角度を変えることにより、構成元素の深さの濃度変化をみることができます。

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