nara-020 - X線光電子分光分析装置 PHI 5000 VersaProbe III　XPS

アルバック・ファイ　PHI 5000 VersaProbe III

  • 画像

    設置場所

    住所： 〒639-1080
    奈良県大和郡山市矢田町22番地
    建屋・棟： 奈良工業高等専門学校　本館北棟
    フロア： 共通機器管理センター　

  • 利用料金

    自主分析
    20,200 円（1時間あたり）
    表面スパッタ  5,000 円 （1時間あたり）
    加熱冷却  5,000 円 （1時間あたり）
    UPS  5,000 円 （1時間あたり）
    SXI  5,000 円 （1時間あたり）
    LEIPS  5,000 円 （1時間あたり）
    REELS  5,000 円 （1時間あたり）
    依頼分析
    20,200 円（1時間あたり）
    表面スパッタ  5,000 円 （1時間あたり）
    加熱冷却  5,000 円 （1時間あたり）
    UPS  5,000 円 （1時間あたり）
    SXI  5,000 円 （1時間あたり）
    LEIPS  5,000 円 （1時間あたり）
    REELS  5,000 円 （1時間あたり）

    詳細

    参照 URL： 奈良工業高等専門学校 共通機器管理センター お問い合わせフォーム
    概要・性能：
    無機固体や高分子などのサンプル表面にX線を照射し、生じる光電子のエネルギーを測定することで、サンプルの構成元素とその電子状態を分析することが可能。
    UPS・LEIPS・REELS・GCIB・加熱冷却機構装備。
    モノクロ光での測定が可能。
    仕様：
    ・モノクロX線光源（Al）、デュアルX線光源（Zr/Mg） 
    ・アルゴンガスクラスターイオン銃（Ar-GCIB） 
    ・SXI観察 ・微量領域分析（10μm） 
    ・真空紫外線光源（UPS） 
    ・低エネルギー逆光電子分光法（LEIPS） 
    ・反射電子エネルギー損失分光法（REELS） 
    ・トランスファーベッセル 
    ・加熱冷却ステージ 
    ・4端子対応加熱冷却試料ホルダー
    注意事項： 解析評価を主体とした依頼分析は受託研究として受付させていただきます。

    基本情報

    機器番号： nara-020
    機器状態： 利用可能
    カテゴリー： 09.表面分析、09.表面分析／XPS
    機器担当者： 奈良高専　産学協働研究センター機器担当者
    機器部局： 奈良工業高等専門学校

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