研究設備・機器共通予約システム

OMU-035 - 集束イオンビーム（FIB）ナノ加工顕微鏡装置

日本電子　JIB-4000

住所：	大阪府堺市中区学園町 1番1号
建屋・棟：	大阪公立大学　中百舌鳥キャンパス　研究基盤共用センター
フロア：	B7棟E106室

自主分析

概要・性能：	１．早く、綺麗な加工大電流イオンビームにより目的の試料をより早く、綺麗に加工することが可能２．加工ダメージの低減低加速電圧の加工により加工ダメージの低減が可能３．安全性ソフトウェアでの各種操作はオペレ－タ別にログイン/ログアウトで管理が可能省エネモ－ドにより、加工終了後のGaイオン源の消費低減を実現４．多彩なGIS 最大2基のGISを装備可能。目的に応じたガスの使用が可能５．省スペース省スペース設計の鏡筒架台と操作架台で構成
仕様：	仕様　イオン源　Ga液体金属イオン源　保証分解能　5nm（加速電圧：30kV）　最大ビーム電流　60nA（加速電圧：30kV）　特徴加速電圧　1～30kV 　試料移動方式　5軸モータステージ（標準）
注意事項：	分析内容について、あらかじめ問い合わせ先までご連絡ください。事前相談を行います。分析内容、試料の性質、目的によっては対応しかねる場合もあります。